Fabrication of Si nanocrystals for memory application by ion irradiation through SiO₂/Si-interfaces
Schmidt, B.; Heinig, K. H.; Röntzsch, L.; Mücklich, A.; Stegemann, K. H.; Votintseva, E.; Klimiankou, M.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230062741 |
| HGF-Programm | 31.40.03 (POF I, LK 01) Materialentwicklung |
| Erscheinungsvermerk | Physik seit Albert Einstein : 69.Jahrestagung der DPG, Berlin, 4.-9.März 2005 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.40(2005) SYFS 1.2 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |