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Fabrication of Si nanocrystals for memory application by ion irradiation through SiO₂/Si-interfaces

Schmidt, B.; Heinig, K.H.; Röntzsch, L.; Mücklich, A.; Stegemann, K.H.; Votintseva, E.; Klimiankou, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230062741
HGF-Programm 31.40.03; LK 01
Erscheinungsvermerk Physik seit Albert Einstein : 69.Jahrestagung der DPG, Berlin, 4.-9.März 2005 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.40(2005) SYFS 1.2
URLs Abstract (PDF)
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