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Lösungsmittelfreie Hochdruckprozesse: Besonderheiten, Potenziale und Chancen

Dahmen, N.



Zugehörige Institution(en) am KIT ITC – Bereich Chemisch-Physikalische Verfahren (ITC-CPV)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2006
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230065302
HGF-Programm 11.12.02 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk Kolloquium 'Perspektiven der Thermischen Verfahrenstechnik', Technische Universität Hamburg-Harburg, 30.Juni 2006
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