Raman spectroscopy of W-doped DLC films: influence of W content and substrate bias

Cavaleiro, A.; Stüber, M.; Rinke, M.; Branco, J. R. T.; Moura e Silva, C. W.

Seitenaufrufe: 16
seit 06.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2006
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230066267
HGF-Programm	43.03.03 (POF I, LK 01) Grenzflächenabhängige Eigenschaften
Erscheinungsvermerk	10th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2006), Garmisch- Partenkirchen, September 11-15, 2006