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Time response behavior of segmented tin dioxide layers to stepwise changes of the electrical potential under air exposure

Goschnick, J.; Kiselev, I.; Simakov, V.



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seit 06.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230066777
HGF-Programm 43.02.02 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk Fall Meeting 2006 of the Materials Research Society, Boston, Mass., November 27 - December 1, 2006 (Poster)
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