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Layout-guided self-assembly on the micro- und nano scale: block copolymer- and polymer blend lithography

Walheim, S.; Barczewski, M.; Schimmel, T.; Schwieder, M.; Spatz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230067996
HGF-Programm 43.01.02 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk 3rd Frontiers Research Meeting, Toulouse, F, May 9-11, 2007
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