Er doped As₂S₃ photoresist for 3-D direct laser fabrication of 3-D nanostructures

Wong, S.; Freymann, G. von; Fenske, D.; Kiowski, O.; Kappes, M.; Peiris, F.; Lindner, J.; Ozin, G. A.; Thiel, M.; Braun, M.; Ledermann, A.; Wegener, M.

Er doped As₂S₃ photoresist for 3-D direct laser fabrication of 3-D nanostructures

Wong, S.; Freymann, G. von; Fenske, D.; Kiowski, O.; Kappes, M.; Peiris, F.; Lindner, J.; Ozin, G. A.; Thiel, M.; Braun, M.; Ledermann, A.; Wegener, M.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2008
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230071055
HGF-Programm	43.04.02 (POF I, LK 01) Metamaterialien u. Photonische Kristalle
Erscheinungsvermerk	Conf.on Lasers and Electrooptics, Quantum Electronics and Laser Science Conf. (CLEO/QELS), San Jose, Calif., May 4-9, 2008

Repository KITopen

Er doped As₂S₃ photoresist for 3-D direct laser fabrication of 3-D nanostructures