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Er doped As₂S₃ photoresist for 3-D direct laser fabrication of 3-D nanostructures

Wong, S.; Freymann, G.von; Fenske, D.; Kiowski, O.; Kappes, M.; Peiris, F.; Lindner, J.; Ozin, G.A.; Thiel, M.; Braun, M.; Ledermann, A.; Wegener, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230071055
HGF-Programm 43.04.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Conf.on Lasers and Electrooptics, Quantum Electronics and Laser Science Conf. (CLEO/QELS), San Jose, Calif., May 4-9, 2008
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