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Effect of the channel roughness on the performance of nanoparticulate zinc oxide field-effect transistors

Okamura, K.; Mechau, N.; Nikolova, D.; Hahn, H.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230071990
HGF-Programm 43.03.10 (POF I, LK 01) Druckbare Elektronik
Erscheinungsvermerk Materials Science and Engineering : Internat.Congress and Exhibition on Advanced Materials and Processes, Nürnberg, September 1-4, 2008
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