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Einfluss des CH₄-Anteils im Sputtergas auf die mechanischen Eigenschaften von V-C-Al-N-Schichten hergestellt durch Sputtern von einem segmentierten Target

Ziebert, C.; Albers, U.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2008
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230072285
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01)
Erscheinungsvermerk 1.Zwischenkolloquium des BMBF Projektes IMAUF 'Innovative Methoden zur Auslegung von Umformwerkzeugen im Fahrzeugbau', Düsseldorf, 16.Juli 2008
Externe Relationen Abstract/Volltext
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