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Electrical characterisation of a low-density layer of SnO₂-nanowires deposited on a set of parallel Pt electrodes

Goschnick, J.; Kiselev, I.; Sysoev, V.; Schneider, T.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230072935
HGF-Programm 31.40.06 (POF I, LK 01) Hochtemp. Heliumtechnologie (HELOKA)
Erscheinungsvermerk MRS Spring Meeting, San Francisco, Calif., March 24-28, 2008
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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