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Er doped As₂S₃ high index of refraction photoresist for 3-D direct laser writing

Wong, S.; Fenske, D.; Kiowski, O.; Kappes, M.; Peiris, F.; Lindner, J.; Ozin, G.A.; Thiel, M.; Braun, M.; Ledermann, A.; Wegener, M.; Freymann, G.von



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230074462
HGF-Programm 43.04.02 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Optical Interaction with Tissue and Cells : Photonics West 2009, San Jose, Calif., January 24-29, 2009
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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