Er doped As₂S₃ high index of refraction photoresist for 3-D direct laser writing

Wong, S.; Fenske, D.; Kiowski, O.; Kappes, M.; Peiris, F.; Lindner, J.; Ozin, G. A.; Thiel, M.; Braun, M.; Ledermann, A.; Wegener, M.; Freymann, G. von

Er doped As₂S₃ high index of refraction photoresist for 3-D direct laser writing

Wong, S.; Fenske, D.; Kiowski, O.; Kappes, M.; Peiris, F.; Lindner, J.; Ozin, G. A.; Thiel, M.; Braun, M.; Ledermann, A.; Wegener, M.; Freymann, G. von

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2009
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230074462
HGF-Programm	43.04.02 (POF II, LK 01) Metamaterialien u. Photonische Kristalle
Erscheinungsvermerk	Optical Interaction with Tissue and Cells : Photonics West 2009, San Jose, Calif., January 24-29, 2009

Repository KITopen

Er doped As₂S₃ high index of refraction photoresist for 3-D direct laser writing