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Constitution and microstructure of reactively r.f. magnetron sputtered Al-Cr-O thin films

Stüber, M.; Diechle, D.; Leiste, H.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230075892
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk High Power Impulse Magnetron Sputtering : Advances in Industrial PVD Technologies, 6th HIPIMS Conf., Sheffield, July 1-2, 2009
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