Constitution and microstructure of reactively r.f. magnetron sputtered Al-Cr-O thin films
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2009 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230075892 |
| HGF-Programm | 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing |
| Erscheinungsvermerk | High Power Impulse Magnetron Sputtering : Advances in Industrial PVD Technologies, 6th HIPIMS Conf., Sheffield, July 1-2, 2009 |