A contribution to deep X-ray lithography process control: structure transfer accuracy and process reproducibility
Meyer, P.; Schulz, J.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2009 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230076051 |
| HGF-Programm | 43.01.06 (POF II, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien |
| Erscheinungsvermerk | 8th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2009), Saskatoon, CDN, June 25-28, 2009 Book of Abstracts |