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A contribution to deep X-ray lithography process control: structure transfer accuracy and process reproducibility

Meyer, P.; Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230076051
HGF-Programm 43.01.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 8th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2009), Saskatoon, CDN, June 25-28, 2009 Book of Abstracts
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