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High-aspect-ratio RF low-pass filter fabricated using deep X-ray lithography

Gono-Santosa, E.; Klymyshyn, D.M.; Börner, M.; Haluzan, D.; Achenbach, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230076054
HGF-Programm 43.01.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 8th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2009), Saskatoon, CDN, June 25-28, 2009 Book of Abstracts
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