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Magnetron sputter deposition of low-stress cubic boron nitride films using Ar-N₂CH₄ gas mixtures

Ulrich, S.; Ye, J.; Stüber, M.; Ziebert, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230076264
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 36th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, Calif., April 27 - May 1, 2009
Externe Relationen Abstract/Volltext
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