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Molecular dynamics simulations of the sputter deposition process of silicon carbide on silicon and comparison with experiments

Prskalo, A.P.; Schmauder, S.; Ziebert, C.; Ye, J.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230077022
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 7th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering in Asia (AEPSE 2009), Busan, Korea, September 20-25, 2009
Externe Relationen Abstract/Volltext
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