Molecular dynamics simulations of the sputter deposition process of silicon carbide on silicon and comparison with experiments
Prskalo, A. P.; Schmauder, S.; Ziebert, C.
; Ye, J.; Ulrich, S.
; Ye, J.; Ulrich, S.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2009 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230077022 |
| HGF-Programm | 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing |
| Erscheinungsvermerk | 7th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering in Asia (AEPSE 2009), Busan, Korea, September 20-25, 2009 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |