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Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes

Wittge, J.; Danilewski, A.N.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P.J.; Vagovic, P.; Dos Santos, R.T.; Cecilia, A.; Li, Z.; Baumbach, T.; Garagorri, J.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M.R.; Jacques, D.; Fossati, M.; Bowen, K.; Tanner, B.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230078191
HGF-Programm 55.51.20 (POF II, LK 02)
Erscheinungsvermerk 1st ANKA/KNMF Joint Users Meeting, Karlsruhe, October 8-9, 2009
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