Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes

Wittge, J.; Danilewski, A. N.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P. J.; Vagovic, P.; Dos Santos, R. T.; Cecilia, A.; Li, Z.; Baumbach, T.; Garagorri, J.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M. R.; Jacques, D.; Fossati, M.; Bowen, K.; Tanner, B.

Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes

Wittge, J.; Danilewski, A. N.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P. J.; Vagovic, P.; Dos Santos, R. T.; Cecilia, A.; Li, Z.; Baumbach, T.; Garagorri, J.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M. R.; Jacques, D.; Fossati, M.; Bowen, K.; Tanner, B.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2009
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230078191
HGF-Programm	55.51.20 (POF II, LK 02) Infrastr.u.Betrieb ANKA-Beschleunigeranl
Erscheinungsvermerk	1st ANKA/KNMF Joint Users Meeting, Karlsruhe, October 8-9, 2009

Repository KITopen

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