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Leistungsfähigkeit und Grenzen von XPS: Charakterisierung nanoskaliger funktionaler Dünnschichten

Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2010
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230078441
HGF-Programm 43.01.05 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Vortr.: Laboratorium für Elektronenmikroskopie, KIT, Karlsruhe, 18.Januar 2010
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