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Charakterisierung nanoskaliger funktionaler Dünnschichten. Möglichkeiten und Grenzen der Röntgen-Photoelektronenspektroskopie

Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2010
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230079195
HGF-Programm 43.12.02 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Vortr.: Staatliche Materialprüfungsanstalt Darmstadt, 20.Mai 2010
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