Tiefenlithographie mit SU8-Resist
Schulz, J.
; Mohr, J.; Hahn, L.; Vogt, A.
; Mohr, J.; Hahn, L.; Vogt, A.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2010 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230079252 |
| HGF-Programm | 43.01.06 (POF II, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien |
| Erscheinungsvermerk | Technologien und Werkstoffe der Mikrosystem- und Nanotechnik : 2.GMM Workshop, Darmstadt, 10.-11.Mai 2010 |