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Tiefenlithographie mit SU8-Resist

Schulz, J.; Mohr, J.; Hahn, L.; Vogt, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2010
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230079252
HGF-Programm 43.01.06 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Technologien und Werkstoffe der Mikrosystem- und Nanotechnik : 2.GMM Workshop, Darmstadt, 10.-11.Mai 2010
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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