Tiefenlithographie mit SU8-Resist

; Mohr, J.; Hahn, L.; Vogt, A.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2010
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 230079252
HGF-Programm	43.01.06 (POF II, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien
Erscheinungsvermerk	Technologien und Werkstoffe der Mikrosystem- und Nanotechnik : 2.GMM Workshop, Darmstadt, 10.-11.Mai 2010