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Reactive magnetron sputtering of solid solution strengthened Al-Cr-O-N thin films

Diechle, D.; Stüber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230080264
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 12th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering (PSE 2010), Garmisch- Partenkirchen, September 13-17, 2010
Externe Relationen Abstract/Volltext
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