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Effets de l'exposition du PMMA aux UV pour des applications optiques

Eve, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230082693
HGF-Programm 43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics
Erscheinungsvermerk Methodes et Techniques Optiques pour l'Industrie : CMOI Colloque 2010, Toulouse, F, 15-19 Novembre 2010
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