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Effets de l'exposition du PMMA aux UV pour des applications optiques

Eve, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230082693
HGF-Programm 43.14.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Methodes et Techniques Optiques pour l'Industrie : CMOI Colloque 2010, Toulouse, F, 15-19 Novembre 2010
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