Fabrication of gratings with extreme aspect rations for X-ray phase contrast

Grund, T.; Kenntner, J.; Simon, M.; Meiser, J.; Matthis, B.; Straus, C.; Last, A.; Mohr, J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2011
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230083362
HGF-Programm	43.14.02 (POF II, LK 01) X-Ray-Optics
Erscheinungsvermerk	9th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2011), Hsinchu, Taiwan, June 12-18, 2011