Deposition and high temperature stability of reactively magnetron sputtered Al-Cr-O and Al-Cr-O-N thin films

Diechle, D.; Cavaleiro, A.; Leiste, H.; Schier, V.; Stueber, M.; Ulrich, S.

Seitenaufrufe: 34
seit 03.08.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2011
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230086008
HGF-Programm	43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erscheinungsvermerk	38th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings & Thin Films (ICMCTF 2011), San Diego, Calif., May 2-6, 2011 Book of Abstracts 410