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Deposition and high temperature stability of reactively magnetron sputtered Al-Cr-O and Al-Cr-O-N thin films

Diechle, D.; Cavaleiro, A.; Leiste, H.; Schier, V.; Stueber, M.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230086008
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 38th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings & Thin Films (ICMCTF 2011), San Diego, Calif., May 2-6, 2011 Book of Abstracts 410
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