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The effect of ZnO-B₂O₃ addition on the dielectric properties and microstructure of screen-printed low-sintered BST thick films

Kohler, C.; Zhou, X.; Sazegar, M.; Jakoby, R.; Stemme, F.; Hausselt, J.; Binder, J.R.

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DOI: 10.5445/IR/230086136
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230086136
HGF-Programm 43.12.02 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Electronic Materials and Applications 2012, Orlando, Fla., January 18-20, 2012
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