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DOI: 10.5445/IR/230090298

In situ X-Ray Reflectivity measurements during sputtering of vanadium carbide thin films

Kaufholz, M.; Krause, B.; Kotapati, S.; Stüber, M.; Ulrich, S.; Baumbach, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230090298
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk Spring Meeting of the European Materials Research Society, Strasbourg, F, May 14-18, 2012
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