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Microstructure formation of magnetron sputtered Cr-V-O thin films in dependance of chemical composition

Spitz, S.; Stüber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230091033
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk Frühjahrstagung DPG, Sektion Kondensierte Materie, Fachverband Metall- und Materialphysik, Regensburg, 10.-15. März 2013 Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.48(2013), MM 19.3
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