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Ferroelectric thin film fabrication by direct UV-lithography

Benkler, M.; Hanemann, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230091241
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013 Book of Abstracts
URLs Abstract (PDF)
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