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Metastable hard (V,Al)N thin films by magnetron sputtering

Stüber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.; Seifert, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230094020
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk European Congress and Exhibition on Advanced Materials and Processes (EUROMAT 2013), Sevilla, E, September 8-13, 2013
Externe Relationen Abstract/Volltext
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