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Polymer blend lithography: A versatile method to fabricate nano-patterned self-assembled monolayers

Huang, C.; Moosmann, M.; Jin, J.; Heiler, T.; Walheim, S.; Schimmel, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230094179
HGF-Programm 43.11.02; LK 01
Erscheinungsvermerk 4th International Symposium 'Trends in Nanoscience', Kloster Irsee, February 24- 28, 2013
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