Comparison of silica film deposition into trenches by reactive magnetron sputtering and PECVD
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2014 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 230095089 |
| HGF-Programm | 43.13.03 (POF II, LK 01) Micro chemical engineering |
| Erscheinungsvermerk | 14th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE 2014), Garmisch-Partenkirchen, September 15-19, 2014 |