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Comparison of silica film deposition into trenches by reactive magnetron sputtering and PECVD

Dubbe, A.; Dittmeyer, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 230095089
HGF-Programm 43.13.03 (POF II, LK 01)
Erscheinungsvermerk 14th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE 2014), Garmisch-Partenkirchen, September 15-19, 2014
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