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Herstellung ferroelektrischer Dünnschichten mittels direkter UV-Lithografie

Benkler, M.; Hanemann, T.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/230096984
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2014
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230096984
HGF-Programm 43.12.01 (POF II, LK 01) Tailored properties of nanomaterials
Erscheinungsvermerk ELMUG Technologiekonferenz 'elmug4future', Friedrichsroda, 1.-2.Juli 2014
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