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Impact of substrate bias variation on composition, microstructure and microhardness of r.f. magnetron sputtered Cr-V-O thin films

Spitz, S.; Stüber, M.; Leiste, H.; Ulrich, S.; Seifert, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230097011
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk Biennial International Conference 'Materials Science Engineering (MSE 2014)', Darmstadt, September 23-25, 2014
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