Novel structuring process for injection molding inserts by free-form reverse nanoimprint lithography

Kehaglas, N.; Fernandez, A.; Medina, J.; Francone, A.; Benkel, C.; Guttmann, M.; Thamdrup, L. H.; Bilenberg, B.; Nielsen, T.; Sotomayor Torres, C.

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seit 17.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	2015
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 230101391
HGF-Programm	43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Veranstaltung	59th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology (EIPBN 2015), San Diego, CA, USA, 26.05.2015 – 29.05.2015