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Atomically precise semiconductor-graphene and hBN interfaces by Ge intercalation

Verbitskiy, N.I.; Fedorov, A.V.; Profeta, G.; Stroppa, A.; Petaccia, L.; Senkovskiy, B.; Nefedov, A.; Wöll, C.; Yu, D.; Usachov, D.V.; Vyalikh, D.V.; Yashina, L.V.; Eliseev, A.A.; Pichler, T.; Grüneis, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 230102033
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erscheinungsvermerk 16th International Conference on X-Ray Absorption Fine Structure (XAFS16), Karlsruhe, August 23-28, 2015
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