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Entwicklung einer Hochleistungsmikrowellenplasmaquelle und Integration derselben in eine industrielle Beschichtungsanlage

Ulrich, S.; Ye, J.; Schweiger, S.; Stüber, M.; Leiste, H.

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/230103279
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2015
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 230103279
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erscheinungsvermerk Treffen der INPLAS Arbeitsgruppe 'Neuartige Plasmaquellen und -prozesse', Alzenau, 19.März 2015
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