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Properties of TRL calibration for on wafer measurements on GaAs

Haffa, Steffen; Hollmann, Detlef; Stowasser, Rainer; Wiesbeck, Werner



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Höchstfrequenztechnik und Elektronik (IHE)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 236389
Erscheinungsvermerk In: Mikrowellen und Optronik. 4. MIOP, Sindelfingen 1989. Hagenburg: Network 1989.
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