KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Diffusion measurement of implanted Sb into Si, using SiO₂ encapsulation

Kotai, E.; Nagy, T.; Meyer, O.; Gyulai, J.; Revesz, P.; Mezey, G.; Lohner, T.; Manuaba, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1978
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240012560
Erscheinungsvermerk Gyulai, J., Lohner, T., Pasztor, E.[Hrsg.]: Internat.Conf.on Ion Beam Modification of Materials, Budapest, September 4-8, 1978. Proc. Budapest: KFKI 1978. Vol.1
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page