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Mask making for synchrotron radiation lithography

Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Muenchmeyer, D.; Schelb, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1987
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240023012
Erscheinungsvermerk Conf. 'Microcirciut Engineering', Interlaken, CH, September 23-25, 1986 Microelectronic Engineering, 5(1986)
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