Resist technology for deep-etch synchrotron radiation lithography

Mohr, J.; Ehrfeld, W.; Muenchmeyer, D.; Stutz, A.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp	Vortrag
Publikationsjahr	1989
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 240024693
HGF-Programm	16.01.04 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk	First Meeting of the European Polymer Federation, European Symp.on Polymeric Materials, Lyon, F, September 14-18, 1987 Paper ED06 Die Makromolekulare Chemie/Macromolecular Symposium Series, 24(1989)