KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Requirements on resist layers in deep-etch synchrotron radiation lithography

Mohr, J.; Ehrfeld, W.; Muenchmeyer, D.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240026382
HGF-Programm 16.01.04; LK 01
Erscheinungsvermerk 32nd Internat.Symp.on Electron, Ion and Photon Beams, Fort Lauderdale, Fla., May 31 - June 3, 1988 Journal of Vacuum Science and Technology B, 6(1988)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page