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Prospective nonlithographic applications of a synchrotron radiation source for deep-etch lithography

Moser, H.O.; Ehrfeld, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240026386
HGF-Programm 16.01.03; LK 01
Erscheinungsvermerk Proc. of the 3rd Internat.Conf.on Synchrotron Radiation Instrumentation, Tsukuba, J, August 28 - September 2, 1988 Review of Scientific Instruments, 60(1989)
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