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Ti- and Be-X-ray masks with alignment windows for the LIGA process

Schomburg, W. K.; Baving, H. J.; Bley, P.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1991
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240029145
HGF-Programm 16.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Microcircuit Engineering 90, Leuven, B, September 18-20, 1990 Microelectronic Engineering, 13(1991)
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