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Masken fuer die Roentgentiefenlithographie

Schomburg, W.; Bley, P.; Hein, H.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1990
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 240029602
HGF-Programm 16.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Maskentechnik fuer Mikroelektronik-Bausteine : Tagung, Muenchen, 8.November 1990 Duesseldorf : VDI-Verl., 1990. - (VDI-Berichte ; 870)
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