KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Examination of the solubility and the molecular weight distribution of PMMA in view of an optimised resist system in deep etch X-ray lithography

El-Kholi, A.; Goettert, J.; Mohr, J.; Bley, P.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1993
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240032700
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Microelectronic Engineering, Erlangen, September 21-24, 1992 Microelectronic Engineering, 21(1993)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page