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The influence of sloped absorber sidewalls in deep X-ray lithography

Schulz, J.; El-Kholi, A.; Goettert, J.; Kadel, K.; Mohr, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1993
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240032701
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Microelectronic Engineering, Erlangen, September 21-24, 1992 Microelectronic Engineering, 21(1993)
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