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Laser induced etching of silicon with fluorine and chlorine and with mixtures of both gases

Koehler, U.; Guber, A.; Bier, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240033453
HGF-Programm 52.01.13 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Weidelich, W. [Hrsg.] Laser in Engineering : Proc.of the 11th Internat.Congress, München, June 21-25, 1993 Berlin [u.a.] : Springer, 1994
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