Adhesion problems in deep-etch X-ray lithography caused by fluorescence radiation from the plating base
Pantenburg, F. J.; Chlebek, J.; El-Kholi, A.; Huber, H. L.; Mohr, J.; Oertel, H. K.; Schulz, J.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240033850 |
| HGF-Programm | 41.01.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | Microelectronic Engineering, Maastricht, NL, September 27-29, 1993 (Poster) Microelectronic Engineering, 23(1994) |