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Influence of secondary effects on the structure quality in deep X-ray lithography

Pantenburg, F.J.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240035530
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Proc.of the 1st European Conf.on Synchrotron Radiation in Materials Science, Chester, GB, July 3-8, 1994 Nuclear Instruments and Methods B, 97(1995)
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