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Ultrathin SiO₂- and Al₂O₃-films as selective component for gassensors

Althainz, P.; Dahlke, A.; Frietsch-Klarhof, M.; Goschnick, J.; Ache, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Radiochemie (IRCH)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 240035644
HGF-Programm 41.03.02; LK 01
Erscheinungsvermerk Hecht, G. [Hrsg.] Thin Films : Proc.of the Joint 4th Internat.Symp.on Trends and New Applications in Thin Films - TATF '94 and the 11th Conf.on High Vacuum, Interfaces and Thin Films - HVITF '94, Dresden, March 7-10, 1994 Oberursel : DGM Informationsges. Verl., 1994
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