Ultrathin SiO₂- and Al₂O₃-films as selective component for gassensors
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Radiochemie (IRCH) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240035644 |
| HGF-Programm | 41.03.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | Hecht, G. [Hrsg.] Thin Films : Proc.of the Joint 4th Internat.Symp.on Trends and New Applications in Thin Films - TATF '94 and the 11th Conf.on High Vacuum, Interfaces and Thin Films - HVITF '94, Dresden, March 7-10, 1994 Oberursel : DGM Informationsges. Verl., 1994 |