Electroplating at high aspect ratio micropatterned electrodes - influence of mass transfer
Bade, K.
; Leyendecker, K.; Thommes, A.; Bacher, W.
; Leyendecker, K.; Thommes, A.; Bacher, W.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 1997 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 240037340 |
| HGF-Programm | 41.01.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erscheinungsvermerk | Romankiw, L.T. [Hrsg.] Magnetic Materials, Processes and Devices : Applications to Storage and Microelectromechanical systems (MEMS) ; Proc.of the 4th Internat.Symp., Chicago, Ill., October 9-12, 1993 Pennington, N.J. : Electrochemical Society, 1996 (Proceedings / Electrochemical Society ; 95-18) |