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Electroplating at high aspect ratio micropatterned electrodes - influence of mass transfer

Bade, K.; Leyendecker, K.; Thommes, A.; Bacher, W.



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seit 15.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 1997
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 240037340
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erscheinungsvermerk Romankiw, L.T. [Hrsg.] Magnetic Materials, Processes and Devices : Applications to Storage and Microelectromechanical systems (MEMS) ; Proc.of the 4th Internat.Symp., Chicago, Ill., October 9-12, 1993 Pennington, N.J. : Electrochemical Society, 1996 (Proceedings / Electrochemical Society ; 95-18)
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